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国产半导体设备企业技术迈入新阶段
时间:2025-05-11 来源:太平洋证券

SEMICON China 2025 召开,国产半导体设备企业技术迈入新阶段。 2025 年 3 月 26-28 日,SEMICON China 2025 于上海召开,全球 1400 多家知名企业参展,增幅 27%,展位数量突破 5000 个,创历史新高。本次展会,国产企业大放异彩,密集推出新产品,其中:1)北方华创带来多款设备方案,并重磅发布两款新品,首款离子注入机 Sirius MC 313、首款 12 英寸电镀设备(ECP)——Ausip T830,半导体设备版图进一步拓宽。2)盛美上海晶圆级与面板级封装设备亮相,部分新产品包括 Tahoe-SPM 清洗设备、单片高温硫酸清洗设备、面板级先进封装电镀设备等。3)中微公司发布 12 英寸边缘刻蚀设备 Primo Halona,关键工艺全面覆盖再进一步,同时推出多款 LPCVD 薄膜设备和 ALD 薄膜设备新产品,并获得了重复性订单,以及新开发硅和锗硅外延 EPI 设备等多款新产品,也将在近期投入市场验证。4)拓荆科技展示其最新的 ALD 系列、3D-IC 及先进封装系列、CVD 系列新品。5)新凯来首次公开亮相,其从薄膜沉积设备到光学检测系统,展台几乎覆盖了芯片制造的关键环节,为行

业带来了新的竞争格局和发展机遇。本次 SEMICON China 展,国产半导体设备厂商技术迈入新阶段,加速国产替代,看好产业链投资机会。


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